多次的实践发现在许多搪玻璃反应釜中，会发生一种称为静电刺穿的效应，这将导致珐琅质中出现一个小坑。当设备内的反应物属于含有悬浮物的液体时，悬浮物会与搪玻璃反应釜的玻璃搪瓷层内壁剧烈摩擦。
同时，材料本身也在摩擦。我们知道摩擦会带来很多电荷。随着反应的进行，这些电荷不断累积终形成。作为一种相对高压的静电荷，这种静电荷对搪玻璃反应釜有很强的击穿作用，即点蚀作用。
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多次的实践发现在许多搪玻璃反应釜中，会发生一种称为静电刺穿的效应，这将导致珐琅质中出现一个小坑。当设备内的反应物属于含有悬浮物的液体时，悬浮物会与搪玻璃反应釜的玻璃搪瓷层内壁剧烈摩擦。
同时，材料本身也在摩擦。我们知道摩擦会带来很多电荷。随着反应的进行，这些电荷不断累积终形成。作为一种相对高压的静电荷，这种静电荷对搪玻璃反应釜有很强的击穿作用，即点蚀作用。
